康宁推出适用于下一代微芯片生产的 Extreme ULE 玻璃，可适用于 EUV 光掩模和光刻镜

电脑系统网 10 月 2 每日新闻，康宁公司今日发布新一代消息 Extreme ULE 康宁将于玻璃材料 9 月 30 日至 10 月 3 加州蒙特雷日在加州举行 SPIE 光掩模技术 这种玻璃和其他半导体材料显示在极紫外光刻会议上。

据报道，这种新型玻璃材料可以帮助芯片制造商改进芯片设计的模板“光掩模”，并能承受最高强度的极紫外线（EUV）光刻，有接近 0 可适用于膨胀特性 EUV 光掩模和光刻镜对于大规模生产最先进、最具成本效益的微芯片至关重要。

计算机系统网注：光掩模是微纳加工技术中常用的光刻工艺中使用的图形母版。它可以在透明玻璃板表面的遮光膜上蚀刻和加工非常微妙的电路图案，从而利用光刻蚀技术将图案复制到晶圆上。

康宁表示，EUV 光刻需要制造商使用最先进的光掩模来完成图案和印刷过程，这需要极端的热稳定性和均匀的玻璃材料，以确保一致的制造性能。

康宁高级光学副总裁兼总经理兼总经理 Claude Echahamian 表示，“Extreme ULE 玻璃可以实现更高的功率 EUV 扩大康宁在继续追求摩尔定律方面的关键作用，制造和提高良率。”

广告声明：文本中包含的外部跳转链接（包括不限于超链接、二维码、密码等形式）用于传递更多信息，节省选择时间。结果仅供参考。计算机系统网络上的所有文章都包含了本声明。